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中國EUV大突破?樣機粗糙簡陋 5年才量產遭譏:募資發愛國財

作者 張雅婷 · 引用 中央社全文約 588 字

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正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上,一家上海新創廠商展出聲稱是7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光(EUV)微影設備樣機。不過,這個樣機外型粗糙簡陋,更離譜的是沒有任何數據資料,現場人員坦承,就算是一切順利的話,仍需要3到5年才能量產。

中國EUV大突破?樣機粗糙簡陋 5年才量產遭譏:募資發愛國財(新聞配圖)
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【張雅婷/綜合外電】正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上,一家上海新創廠商展出聲稱是7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光(EUV)微影設備樣機。不過,這個樣機外型粗糙簡陋,更離譜的是沒有任何數據資料,現場人員坦承,就算是一切順利的話,仍需要3到5年才能量產。...