科技新報中國新創企業開發出 EUV 光源，預估距離正式商用最快 3 年
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文章摘要
科技新報 · 文章頁摘要在美國與荷蘭深化半導體出口管制的背景下，中國半導體設備國產化迎來重大技術突破。中國新創企業朗道矽斯（Langdao Silex）日前成功展示首款自主研發的極紫外光（EUV）微影雷射光源系統，為中國打造完全自主可控的半導體供應鏈奠定關鍵基礎。 根據朗道矽斯公布的技術規格，該款名為FlintNano L...
在美國與荷蘭深化半導體出口管制的背景下，中國半導體設備國產化迎來重大技術突破。中國新創企業朗道矽斯（Langdao Silex）日前成功展示首款自主研發的極紫外光（EUV）微影雷射光源系統，為中國打造完全自主可控的半導體供應鏈奠定關鍵基礎。...