Newtalk新聞中國工博會 上海新創廠商展出研製EUV樣機
來源 中央社
文章摘要
Newtalk新聞 · 文章頁摘要正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。其中，美國阻止荷蘭艾司摩爾（ASML）向中國出口EUV微影設備後，中國自行開發深紫外光（DUV）微影設備，以提升先進製
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正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。其中，美國阻止荷蘭艾司摩爾（ASML）向中國出口EUV微影設備後，中國自行開發深紫外光（DUV）微影設備，以提升先進製
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