用於7奈米以下製程！中國工博會上海新創廠商展出EUV樣機

〔中央社〕正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。 美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。