中央社中國工博會 上海新創廠商展出研製EUV樣機
作者 馮昭全文約 484 字
文章摘要
中央社 · 文章頁摘要正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。
（中央社記者馮昭上海15日電）正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。...
正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。
（中央社記者馮昭上海15日電）正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。...