國研院攜手汎銓科技，攻克新一代極紫外光製程後結構分析技術瓶頸

台灣展現半導體製程材料檢測、驗證領域強大研發能量，國研院攜手頂尖半導體材料分析大廠汎銓科技（MSS），成功攻克新一代「高數值孔徑極紫外光」光阻材料微影製程後，如何以鍍膜技術強化晶圓上奈米結構以進行後續檢測分析的難題，這是全世界第一個對此製程成功鍍膜的研究成果，也是半導體製程邁向 2 奈米線寬過程必須...