中時新聞網國研院攜手汎銓突破EUV分析瓶頸 助打入3大設備廠商機
作者 呂俊儀全文約 1,306 字
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中時新聞網 · 文章頁摘要國科會轄下國研院國儀中心攜手半導體材料分析廠汎銓，在2奈米以下檢測技術有新突破，國研院27日舉辦記者會，與汎銓一同宣布攻克「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）光阻材料微影製程後，以鍍膜技術強化晶圓上的奈
國科會轄下國研院國儀中心攜手半導體材料分析廠汎銓，在2奈米以下檢測技術有新突破，國研院27日舉辦記者會，與汎銓一同宣布攻克「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）光阻材料微影製程後，以鍍膜技術強化晶圓上的奈米結構，解決檢測誤判問題，是全世界第一個對此製程成功鍍膜的研究成果。...