國研院攜手汎銓 攻克High-NA EUV製程檢測技術

國研院國儀中心攜手汎銓發表高NA EUV光阻材料微影後結構分析瓶頸解方，鍍膜強化晶圓奈米結構。 全球首度成功鍍膜研究成果獲ASML於國際學術論壇引用，助汎銓打入國際設備商與製造商驗證供應鏈。 國儀中心開發低於100度原子層沉積設備，與汎銓合作在金屬氧化物光阻劑表面形成均勻保護層。