鎧俠加入應材 EPIC 中心，將攜手合作開發先進記憶體

應用材料宣布，NAND Flash 與 SSD 製造大廠鎧俠（KIOXIA）將加入應材位於矽谷的設備與製程創新暨商業化（Equipment and Process Innovation and Commercialization，EPIC）中心，成為共同推進新一代記憶體技術發展的創新夥伴。雙方將於 EPIC 中心合作開發先進記憶體單元與結構、多晶片堆疊架構，以及全新的材料工程技術，以提升 AI 時代所需的記憶體密度與效能。

應用材料公司總裁暨執行長蓋瑞‧迪克森（Gary Dickerson）表示，AI 基礎設施需要具備更高密度、更大頻寬與更佳能源效率的記憶體解決方案。透過在 EPIC 中心結合鎧俠深厚的記憶體技術專長，以及應材的材料工程創新能力，我們建立強大的合作夥伴關係，開創下一代記憶體技術的更多可能。

鎧俠社長暨執行長太田裕雄（Hiroo Ota）表示，在鎧俠，我們始終堅信，記憶體技術的發展潛力取決於持續突破材料與製程創新的界限。我們與應用材料公司的合作，展現雙方推動記憶體創新的共同承諾。我們也期待在 EPIC 中心合作，攜手實現先進技術突破。

透過 EPIC 中心的合作，應材與鎧俠將共同推動研發計畫，以因應新一代記憶體創新所面臨的關鍵挑戰，重點領域包括：

應材位於矽谷的全新設備與製程創新暨商業化中心耗資 50 億美元，是美國有史以來在先進半導體設備研發上最大規模的投資。該中心將於2026年投入營運，從規劃之初，即致力於大幅縮短突破性技術從早期研發到全面量產的商業化進程。

對晶片製造商來說，EPIC 中心將使其能更早接觸到應材的研發技術組合，加快學習週期，並在安全的合作環境，加速下一代技術導入量產。此外，透過 EPIC 中心的共同創新計畫，應材也將取得更全面的多節點技術視野，進而引導研發投資，同時提高研發生產力，並促進價值共享。而隨客戶計畫的展開，資本支出預期將逐步增加至約 50 億美元。

(首圖來源：鎧俠)

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