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傳Nvidia要求自家HBM基礎晶粒 須用台積製程 三星配合

作者 陳苓全文約 925 字

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韓國消息指出,輝達(Nvidia,又稱英偉達)要求該公司的客製化高頻寬記憶體(HBM),基礎晶粒(base die)部分須使用台積電的3奈米製程,原因之一是台積良率超過90%,三星電子因此須與台積攜手。

傳Nvidia要求自家HBM基礎晶粒 須用台積製程 三星配合(新聞配圖)
配圖來源:世界新聞網

輝達傳要求客製化HBM的基礎晶粒改由台積電3奈米製程生產,主因是良率與產能更穩定,並可提升NVHBM性能與降低功耗。 韓國消息指出,輝達(Nvidia,又稱英偉達)要求該公司的客製化高頻寬記憶體(HBM),基礎晶粒(base die)部分須使用台積電的3奈米製程,原因之一是台積良率超過90%,三星電...