科技新報ASML 警告美擴大 DUV 禁令，恐加速中國半導體自主化
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科技新報 · 文章頁摘要荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）近日再度對美國國會擬推動的《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act）表達疑慮，認為若進一步限制其向中國銷售深紫外光（DUV）微影設備，不僅難以達成抑制效果，反而可能刺激中國加快發展本土替代技術。 ASML 財務長 Roger Dassen 在公司公布第三...
荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）近日再度對美國國會擬推動的《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act）表達疑慮，認為若進一步限制其向中國銷售深紫外光（DUV）微影設備，不僅難以達成抑制效果，反而可能刺激中國加快發展本土替代技術。...