科技新報

挑戰 Hyper-NA EUV?科學家嘗試新 B-EUV 微影、CLD 沉積,有望顛覆未來晶片製造

作者 林妤柔

約翰霍普金斯大學(Johns Hopkins University)研究人員揭示一種全新的晶片製造方法,使用波 […]...