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M31首獲埃米製程授權案 北美市場營收翻倍、權利金創15季新高
全球矽智財領導供應商円星科技（M31 Technology， M31）於11月6日召開法人說明會，繳出多項亮眼成績：第三季合併營收達新台幣4.95億元，季增17.4%、年增39.6%；授權金亦達近年高點，為公司成立以來第三高的季度表現；權利金更在本季突破15季以來最佳水準，同時首度取得埃米世代（Angstrom-node）先進製程授權案，標誌公司IP布局正式跨入極先進製程領域。 此外，M31今年再度蟬聯台積電消費暨行動特殊製程矽智財年度合作夥伴獎，並已連續九年獲此殊榮，充分彰顯公司在先進製程生態系中長期深耕的技術實力。 北美先進製程專案帶動結構升級 授權金單均案值顯著提升 北美市場於本季扮演公司成長主力，除認列北美晶圓廠首個先進製程平台建置案外，M31首度取得當地IDM大廠合作機會，第四季更有機會進一步延伸至2奈米以下GAA架構專案；而與北美IC設計領導廠商的合作已在本季推進至埃米節點，進一步延伸M31在極先進製程的覆蓋範圍。 同時，該公司也取得中國指標車用晶片與MCU客戶新訂單。客戶應用範圍持續擴大，涵蓋ADAS、AI加速器、AI智慧眼鏡、資料轉換器（Data Convert
中時新聞網偏藍《半導體》M31雙喜臨門！權利金創15季高 埃米製程首度到手
M31（6643）第三季營運表現亮眼，合併營收達4.95億元，季增17.4%、年增39.6%，授權金收入創公司成立以來第三高的單季紀錄，權利金收入也寫下近15季新高。值得注意的是，M31首度取得埃米世代（Angstrom-node）先進製
經濟日報10/27（二）
國研院攜手汎銓科技突破低溫鍍膜技術 助攻新世代半導體檢測
因應半導體先進製程持續微縮，國科會轄下國研院國儀中心攜手汎銓科技股份有限公司，成功突破新一代「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）光阻材料微影製程後的結構分析瓶頸。團隊透過低於攝氏100度的原子層沉積鍍膜技術，在金屬氧化物光阻劑表面形成奈米級保護層，降低後續檢測分析對結構造成的損傷，提升分析結果的準確性。 國研院表示，這是全球首度針對此製程成功鍍膜的研究成果，相關技術已獲全球極紫外光微影設備龍頭艾司摩爾（ASML）於國際學術論壇引用，並協助汎銓科技打入國際大型半導體設備商與製造商的製程驗證分析服務供應鏈，展現臺灣在先進半導體材料檢測與驗證領域的研發實力。 先為奈米結構加上保護層 提升分析準確性 隨著半導體製程朝埃米（Angstrom）尺度發展，微影技術也進一步邁向High-NA EUV，以製作更精細的電路圖案。金屬氧化物光阻劑（Metal Oxide Resist，MOR）是搭配這項技術的關鍵材料之一，有助於形成更精細、邊緣更平滑的圖案，提升製程效能與良率。 新世代微影製程對結構品質與尺寸精度的要求更高，因此需要透過精密檢測，剖析微影曝光後的化學變化與奈米結構，作為
