科技新報High-NA EUV 發展未歇，英特爾率先採用、台積電與三星推進量產時程
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科技新報 · 文章頁摘要高數值孔徑（High-NA）EUV 微影一度被質疑設備昂貴、曝光場縮小、經濟效益難算。SemiWiki 分析指出，英特爾已把它用在出貨產品、三星與台積電也相繼排出導入時程，這項技術的「訃聞」寫得太早。 High-NA EUV 原本被視為半導體製造的下一步，但隨後疑慮接踵而來：掃描機價格高昂、曝光場較...
高數值孔徑（High-NA）EUV 微影一度被質疑設備昂貴、曝光場縮小、經濟效益難算。SemiWiki 分析指出，英特爾已把它用在出貨產品、三星與台積電也相繼排出導入時程，這項技術的「訃聞」寫得太早。 High-NA EUV 原本被視為半導體製造的下一步，但隨後疑慮接踵而來：掃描機價格高昂、曝光場較...