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國科會研發2奈米製程鍍膜技術 有助提高晶片製程良率

作者 林靜梅、邱福財全文約 585 字

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公視新聞 · 原文導言

因應全球半導體先進製程的快速演進,要怎麼提高2奈米晶圓良率與量產,國科會轄下的國研院國家儀器科技研究中心,與國內頂尖半導體材料分析大廠泛銓科技公司攜手研發,提供業界所需的高品質鍍膜需求,可以更精準檢測所生產出的晶片品質,大大提高良率。

國科會研發2奈米製程鍍膜技術 有助提高晶片製程良率(新聞配圖)
配圖來源:公視新聞

台積電在2奈米製程,技術量產規模、良率以及市占率在國際上大幅領先,國內檢驗技術也持續有進展。國科會轄下的國研院國家儀器科技研究中心,與半導體材料分析大廠汎銓科技公司攜手突破瓶頸,研發出2奈米製程鍍膜技術,讓晶片生產出來可更精準檢驗,掌握是否達到高品質。...