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汎銓攜國研院突破EUV分析瓶頸 搶攻A14及A10商機

作者 簡永祥全文約 1,017 字

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國家實驗研究院今日攜手汎銓科技(6830)發表新一代極紫外光(EUV)製程後結構分析技術成果,雙方合作不僅突破先進光阻材料低溫保護及高精度分析瓶頸,更進一步將服務從材料分析延伸至類晶圓廠(Like Fab)製程模擬、鍍膜及驗證,建立一條龍服務模式,搶攻1.4奈米(A14)、1奈米(A10)及未來埃米世代新材料商機。

汎銓攜國研院突破EUV分析瓶頸 搶攻A14及A10商機(新聞配圖)
配圖來源:聯合新聞網

國家實驗研究院今日攜手汎銓科技(6830)發表新一代極紫外光(EUV)製程後結構分析技術成果,雙方合作不僅突破先進光阻材料低溫保護及高精度分析瓶頸,更進一步將服務從材料分析延伸至類晶圓廠(Like Fab)製程模擬、鍍膜及驗證,建立一條龍服務模式,搶攻1.4奈米(A14)、1奈米(A10)及未來埃米...