重磅合作!傳輝達指定三星HBM底層晶片 採台積電3奈米製程
作者 鄭緯浩全文約 485 字
文章摘要
中天新聞網 · 文章頁摘要三星電子將採用台積電3奈米製程,生產輝達下一代客製化高頻寬記憶體(HBM)的核心元件底層晶片(Base Die)。業界人士指出,輝達已要求三星、SK海力士及美光三大供應商,統一採用台積電3奈米製程製造底層晶片,並將核心記憶體晶片統一採用第六代DRAM製程1c,以確保不同供應商產品的效能一致。

三星電子將採用台積電3奈米製程,生產輝達下一代客製化高頻寬記憶體(HBM)的核心元件底層晶片(Base Die)。業界人士指出,輝達已要求三星、SK海力士及美光三大供應商,統一採用台積電3奈米製程製造底層晶片,並將核心記憶體晶片統一採用第六代DRAM製程1c,以確保不同供應商產品的效能一致。...