台積電法說會/High-NA 規劃2030年導入 魏哲家:晚於對手不構成劣勢
文章摘要
經濟日報 · 文章頁摘要台積電(2330)董事長暨總裁魏哲家15日表示,目前規劃2030年開始使用高數值孔徑極紫外光微影(High-NA EUV)設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手,他不認為台積電因此處於劣勢,並強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。

本文共646字 台積電(2330)董事長暨總裁魏哲家15日表示,目前規劃2030年開始使用高數值孔徑極紫外光微影(High-NA EUV)設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手,他不認為台積電因此處於劣勢,並強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。...