經濟日報

HIGH NA EUV 設備 台積電 2030 年導入

作者 尹慧中、朱子呈全文約 240 字

文章摘要

經濟日報 · 文章頁摘要

台積電董事長魏哲家昨(15)日表示,目前規劃2030年開始使用更先進的高數值孔徑極紫外光微影(High-NA EUV)設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手,他不認為台積電會因此處於劣勢,強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。

HIGH NA EUV 設備 台積電 2030 年導入(新聞配圖)
配圖來源:經濟日報

本文共188字 台積電(2330)董事長魏哲家昨(15)日表示,目前規劃2030年開始使用更先進的高數值孔徑極紫外光微影(High-NA EUV)設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手,他不認為台積電會因此處於劣勢,強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。...