聯合新聞網台積電法說會／High-NA規劃2030年導入 魏哲家：晚於對手不構成劣勢
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聯合新聞網 · 文章頁摘要台積電（2330）董事長暨總裁魏哲家15日表示，目前規劃2030年開始使用高數值孔徑極紫外光微影（High-NA EUV）設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手，他不認為台積電因此處於劣勢，並強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。
台積電（2330）董事長暨總裁魏哲家15日表示，目前規劃2030年開始使用高數值孔徑極紫外光微影（High-NA EUV）設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手，他不認為台積電因此處於劣勢，並強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。...