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《科技》應材攜手英特爾 加速晶片製造技術創新

作者 林資傑
《科技》應材攜手英特爾 加速晶片製造技術創新(新聞配圖)
配圖來源:中時新聞網

半導體設備供應商應材(Applied Materials)宣布攜手英特爾(Intel),推動新一代電晶體、互連與先進封裝技術加速創新,結合應材矽谷設備與製程創新暨商業化(EPIC)中心及英特爾奧勒岡州研發園區技術能量,縮短支援...