科技新報

黃仁勳估中國 2030 年成功自研先進曝光機，外媒揭目前技術落差

作者 林妤柔

中國近年積極發展半導體國產化，輝達（NVIDIA）執行長黃仁勳認為，中國只需要再花三、四年，就能開發出自己的先 […]...

https://technews.tw/2026/09/17/jensen-huang-2030-china-will-develop-lithography-chipmaking-tools/