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繞道突破美晶片封鎖：中科院藉 GAA 創新延壽 DUV，5 奈米密度成短期極限

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中國科學院（中科院）近日發表一項新型全環繞式閘極（GAA）電晶體架構，標榜即便使用較舊的深紫外光（DUV）微影 […]...

https://technews.tw/2026/09/18/china-duv-breakthrough-5nm-advance/