← 立報傳媒報導原站文章立報傳媒面對先進封裝與3D IC挑戰 科勝、AVEVA鎖定廠務智慧化潘韜宇9/29 13:51全文約 779 字開頭節錄全文請至原站閱讀當一顆晶圓的風險,藏在一台真空泵微幅升高的溫度裡,廠務就不再只是後勤。半導體製程推進至2奈米以下、3D IC與先進封裝同步升溫後,晶圓廠對電力、超純水、真空與潔淨度的穩定要求全面提高。……前往原站閱讀全文