日本半導體 EUV 技術落敗艾司摩爾 專家揭關鍵失誤

商傳媒｜吳承岳／台北報導 曾主導半導體露光裝置市場的日本企業，在極紫外光刻（EUV）技術的開發上，徹底輸給了荷蘭的艾司摩爾（ASML），這不單是商業模式的失敗，更是技術發展未能達到量產水準的挫敗。學習院大學教授柴田友厚（Tomohisa Shibata）分析，日本半導體產業在 EUV 技術上的落敗，...