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鞏固半導體供應鏈!國研院攜汎銓科技 攻克新一代極紫外光製程

作者 江睿智全文約 1,614 字

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因應全球半導體先進製程的快速演進,國科會轄下國家實驗研究院國家儀器科技研究中心攜手國內頂尖半導體材料分析大廠汎銓(6830)科技,一舉攻克新一代「高數值孔徑極紫外光」(High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet, High-NA EUV)光阻材料微影製程後,此成果協助汎銓科技打入全球大型半導體設備商與製造商的製程供應鏈,展現台灣在半導體製程材料檢測與驗證領域的強大研發能量。

鞏固半導體供應鏈!國研院攜汎銓科技 攻克新一代極紫外光製程(新聞配圖)
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因應全球半導體先進製程的快速演進,國科會轄下國家實驗研究院國家儀器科技研究中心攜手國內頂尖半導體材料分析大廠汎銓(6830)科技,一舉攻克新一代「高數值孔徑極紫外光」(High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet, High-NA EUV)光阻材料微影製程後...