HIGH NA EUV設備 台積電2030年導入

台積電董事長魏哲家昨（15）日表示，目前規劃2030年開始使用更先進的高數值孔徑極紫外光微影（High-NA EUV）設備。儘管導入時間可能晚於部分競爭對手，他不認為台積電會因此處於劣勢，強調仍有信心為客戶提供最先進製程技術。