← 科技新報報導科技新報開創生醫應用新局,imec 靠 ASML EUV 設備成功實現晶圓級奈米孔作者 林妤柔2025/12/22 13:33#半導體21 家 · 182 篇#國際觀察1 家 · 49 篇#材料、設備1 家 · 12 篇#ASML3 家 · 5 篇#EUV3 家 · 3 篇#imec比利時微電子研究中心(imec)已成功展示利用 ASML 最先進的極紫外光(EUV)微影設備,實現晶圓級規模的 […]...https://technews.tw/2025/12/22/imec-use-euv-lithography-make-nanopores/