← 科技新報報導科技新報ASML 緊張了!日本 DNP 成功開發 10 奈米等級奈米壓印技術作者 Atkinson2025/12/15 17:00#半導體19 家 · 169 篇#晶片15 家 · 122 篇#材料、設備1 家 · 12 篇#處理器2 家 · 13 篇#記憶體13 家 · 84 篇#零組件2 家 · 27 篇#AI晶片11 家 · 19 篇#EUV9 家 · 14 篇#NAND Flash2 家 · 5 篇#奈米壓印2 家 · 2 篇#晶圓5 家 · 26 篇#智慧型手機6 家 · 9 篇大日本印刷株式會社 (DNP) 近日宣佈,成功開發出電路線寬為 10 奈米的 NIL 奈米壓印技術,可用於相當 […]...https://finance.technews.tw/2025/12/15/dai-nippon-printing-co-ltd-has-successfully-developed-a-10-nanometer-level-nano-imprint-exposure-mask-technology/