鉅亨網挑戰ASML壟斷！日本奈米壓印瞄準1.4奈米 成本不到EUV十分之一
機構署名 鉅亨網新聞中心
大日本印刷株式會社（DNP）宣布，他們已成功開發出一款線寬僅 10 奈米的奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）模板，並宣稱，此項技術具備支援未來 1.4 奈米製程等級邏輯晶片圖形化的能力，並有望在特定應用領域取代目前由 ASML 獨家壟斷的昂貴 EUV 製程。...
大日本印刷株式會社（DNP）宣布，他們已成功開發出一款線寬僅 10 奈米的奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）模板，並宣稱，此項技術具備支援未來 1.4 奈米製程等級邏輯晶片圖形化的能力，並有望在特定應用領域取代目前由 ASML 獨家壟斷的昂貴 EUV 製程。...