← 科技新報報導科技新報imec 宣布單次曝光 High NA EUV 微影技術重大突破,推進 2 奈米以下製程發展作者 Atkinson2025/9/29 10:10#半導體26 家 · 235 篇#晶圓5 家 · 28 篇#晶片22 家 · 244 篇#材料、設備1 家 · 11 篇#零組件1 家 · 19 篇#ASML2 家 · 2 篇#High-NA EUV1 家 · 2 篇#imec比利時微電子研究中心(imec)日前發布重大消息,宣布其在高數值孔徑極紫外曝光(High NA EUV)單次圖 […]...https://technews.tw/2025/09/29/imec-announces-breakthrough-in-single-shot-high-na-euv-lithography/