← 科技新報報導科技新報曝光機需求優於預期,2027 年 ASML 將交貨 10 套 High-NA EUV 和 56 套 EUV作者 Atkinson2025/9/26 15:30#IC 設計1 家 · 19 篇#半導體22 家 · 207 篇#晶圓6 家 · 28 篇#晶片25 家 · 196 篇#材料、設備1 家 · 12 篇#零組件3 家 · 25 篇#EUV3 家 · 3 篇#High-NA EUV1 家 · 3 篇#SK海力士3 家 · 6 篇#三星11 家 · 23 篇#人工智慧17 家 · 98 篇#晶圓代工7 家 · 17 篇#英特爾20 家 · 82 篇#記憶體8 家 · 33 篇隨著人工智慧(AI)浪潮帶動了半導體產業的發展,投資機構對 ASML 產品的長期需求仍保持樂觀,因為這些 AI […]...https://technews.tw/2025/09/26/exposure-machine-demand-is-better-than-expected/