← 科技新報報導科技新報英特爾:首批兩台 High-NA EUV 設備已投產,初期數據表現良好作者 林妤柔2025/2/25 09:42#半導體23 家 · 201 篇#晶圓5 家 · 28 篇#材料、設備1 家 · 9 篇#ASML1 家 · 2 篇#High-NA EUV1 家 · 2 篇#半導體設備2 家 · 3 篇#晶圓製造1 家 · 4 篇#英特爾17 家 · 49 篇英特爾週一(24 日)表示,ASML 首批的兩台先進曝光機已在其工廠投產,早期數據顯示它們比之前的機型更可靠。 […]...https://technews.tw/2025/02/25/intel-asml-high-na-lithography-machines/