科技新報

英特爾:首批兩台 High-NA EUV 設備已投產,初期數據表現良好

作者 林妤柔

英特爾週一(24 日)表示,ASML 首批的兩台先進曝光機已在其工廠投產,早期數據顯示它們比之前的機型更可靠。 […]...