科林研發宣布新乾式光阻技術，可建立 28 奈米間距的高解析度圖案化

作者林妤柔2025/1/17 10:02

科林研發（ Lam Research）宣布其創新的乾式光阻（dry resist）技術可直接印刷 28 奈米間 […]...