← 科技新報報導科技新報日本學者開發簡化版 EUV 曝光設備,大幅降低晶片製造成本作者 林妤柔2024/8/7 16:24#半導體23 家 · 213 篇#晶圓5 家 · 34 篇#材料、設備1 家 · 10 篇#ASML3 家 · 5 篇#EUV2 家 · 2 篇#OIST#曝光機據外媒 Tom’s Hardware 報導,沖繩科技技術大學院大學(OIST)研究團隊提出全新、大幅簡化的 E […]...https://technews.tw/2024/08/07/oist-euv-lithography-technology/