← 科技新報報導科技新報新標準型 EUV 採部分High-NA EUV 技術,提升曝光效率逾 20%作者 Atkinson3/27 16:45#半導體23 家 · 210 篇#晶圓6 家 · 28 篇#晶片18 家 · 103 篇#材料、設備1 家 · 13 篇#零組件2 家 · 12 篇#ASML6 家 · 11 篇#EUV1 家 · 2 篇#曝光機2 家 · 3 篇根據荷蘭媒體 Bits&Chips 的報導,曝光機大廠 ASML 官方已經確認,其新一代標準型 0.3 […]...https://technews.tw/2024/03/27/new-standard-euv-adopts-part-of-high-na-euv-technology/