台積電宣布2030年起導入ASML High NA EUV、微影光罩尺寸擴大一倍

艾司摩爾(ASML-US)台積電(2330-TW)(TSM-US)今(8)日共同宣布，台積電將自2030年起在先進製程量產中導入艾司摩爾的High NA EUV技術，並進一步擴大微影光罩尺寸，從現有的6吋光罩擴大至12吋...