Newtalk新聞台積電High NA EUV邁大步！攜ASML推12吋光罩、擬2030年導入量產
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半導體先進製程競賽持續升級。台積電（2330）與全球曝光機龍頭 ASML今（8）日宣布，雙方發起產業合作，共同推動極紫外光（EUV）微影技術從現行 6 吋光罩升級至更大的 12 吋光罩，目標 2031 年前建立 12 吋光罩試產線，並於 2033 年前實現微影系統全面就緒，支援先進製程量產。值得注意...
半導體先進製程競賽持續升級。台積電（2330）與全球曝光機龍頭 ASML今（8）日宣布，雙方發起產業合作，共同推動極紫外光（EUV）微影技術從現行 6 吋光罩升級至更大的 12 吋光罩，目標 2031 年前建立 12 吋光罩試產線，並於 2033 年前實現微影系統全面就緒，支援先進製程量產。值得注意...