應材圖案成形技術 每片晶圓節省50美元成本
署名 鉅亨網記者魏志豪 台北
應用材料 (AMAT-US) 今 (6) 日宣布圖案 (patterning) 成形技術,可協助晶片製造商以更少的 EUV 微影步驟生產高效能的電晶體和內連佈線(interconnect wiring),進而降低先進晶片製程的成本、複雜...
應用材料 (AMAT-US) 今 (6) 日宣布圖案 (patterning) 成形技術,可協助晶片製造商以更少的 EUV 微影步驟生產高效能的電晶體和內連佈線(interconnect wiring),進而降低先進晶片製程的成本、複雜...