三星舉行3奈米GAA架構晶片出廠儀式
署名 鉅亨網編譯陳達誠
三星電子周一 (24 日) 在韓國京畿道華城廠區內的極紫外光 (EUV) 專用 V1 生產線,為該公司利用新一代環繞閘極 (GAA) 架構技術生產的 3 奈米晶片產品舉辦出廠紀念活動。三星沒有提到誰是 3 奈米晶片首家客戶,還有目前良率也令人好奇...
三星電子周一 (24 日) 在韓國京畿道華城廠區內的極紫外光 (EUV) 專用 V1 生產線,為該公司利用新一代環繞閘極 (GAA) 架構技術生產的 3 奈米晶片產品舉辦出廠紀念活動。三星沒有提到誰是 3 奈米晶片首家客戶,還有目前良率也令人好奇...