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台積電攜ASML推進12吋光罩 2031年建試產線攻先進製程

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台積電攜ASML推進12吋光罩 2031年建試產線攻先進製程(新聞配圖)
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台積電今天宣布,與ASML展開合作,共同推動轉移升級至12吋光罩,將微影技術的價值發揮到極致,消除需要兩張6吋光罩在High NA EUV曝光時進行拼接的限制,目標於2031年之前建立12吋光罩試產線,並於2033年之前實現微影系統全面就緒,以支援先進製程量產。...