華取得浸潤式DUV光刻機　美報告建議收緊管制

東網電視

EUV光刻機現時只有荷蘭公司ASML能生產。

美國研究機構指出，在美國限制出口先進半導體製造設備之際，中國仍取得數百部可用於製造先進晶片的浸潤式深紫外光（DUV）光刻機，顯示現行出口管制可能存在漏洞，建議全面禁止向中國出口浸潤式DUV光刻機。

科技與國家治理能力中心9月發表報告指出，截至2026年初，中國的晶片廠估計已獲得343部浸潤式DUV光刻機，當中有270部屬於荷蘭半導體生產設備製造商ASML的Twinscan NXT:1980i系統。美國禁止向中國出口規格較高的極紫外光（EUV）光刻機，所以中國晶片製造商高度依賴一些不在美國出口管制範圍內的浸潤式DUV光刻機。經過調整後，浸潤式DUV光刻機仍可用於製造7納米晶片，以及人工智能（AI）處理器所需的高階記憶體。

報告指出，單是2024年及2025年，中國晶片廠花費超過130億美元（約1,014億港元）購買NXT:1980i系統。荷蘭於2023年9月起規定，出口規格更高的ASML NXT:2000i及以上浸潤式DUV光刻機需要許可證，但出口NXT:1980i系統可逐案獲得批准。報告建議美國與荷蘭協調，或單方面將美國的出口管制，擴大到採用美國技術的外國製造設備。