大紀元報告：中共囤積ASML光刻機 美應全面禁出口
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【大紀元2026年10月04日訊】（大紀元記者夏雨報導）中共一直在投資巨資發展高端芯片設計和生產，但缺乏尖端光刻設備令中共野心受挫。9月底，美國前出口管制官員撰寫的一份最新報告顯示，近年來，中國半導體工廠囤積了價值數十億美元的數百台浸沒式「深紫外光刻機」（DUV）；這些前官員敦促美國政府及其盟友全面禁止向中企出口此類設備。
「技術與治國方略中心」（Center for Technology & Statecraft，簡稱CTS）9月26日發表新報告顯示，先進光刻系統對於生產具有競爭力的AI芯片至關重要，但中國不太可能在2030年代中期之前實現這些系統的規模化商用。使得作為這些系統唯一生產者的美國及其盟友，在應對中共AI野心時擁有了巨大籌碼。
由於無法購買荷蘭設備製造商ASML最先進的「極紫外光刻機」（EUV），中國芯片製造商轉而大量依賴浸沒式DUV光刻機來生產高端半導體，這些浸沒式DUV系統的部分型號未在西方出口禁令範圍內。
報告說，目前美國政府卻允許中國進口能夠生產先進AI芯片的深紫外浸沒式（DUVi）光刻系統，從而令中共積極利用這一契機，截至2026年初，中方已積累了大量且不斷增長的此類設備庫存。如果中國進口DUVi的步伐維持2024至2025年水平，那麼在未來五到十年內，中國積累的光刻產能可能足以縮小、甚至消除美國及其盟友目前在人工智能（AI）芯片製造領域擁有的巨大優勢。
該研究報告由美國前出口管制官員尼古拉斯‧布朗（Nicholas Brown）與曾任白宮及商務部技術政策顧問的賽義夫‧汗（Saif Khan）共同撰寫。報告為美國政府關於西方盟友是否應全面禁止向中國出口浸沒式DUV設備的爭論，提供新的數據。
報告中的數據顯示，截至2026年第一季度，中國本土芯片製造廠共擁有343台深紫外浸沒式（DUVi）光刻系統。更廣泛的估算（涵蓋在中國運營的跨國公司晶圓廠）顯示，此類設備總量約為396台，模型預測範圍為361至444台。
CTS估算，中資晶圓廠擁有的設備包括約270台ASML NXT:1980i系統、22台NXT:2050i系統、6台NXT:2100i系統，以及45台技術水平較低的DUVi系統，總計343台。CTS估計，ASML占據了DUVi市場約99%的份額。
CTS評估認為，NXT:1980i機型具備支持生產7納米邏輯芯片和HBM2e存儲芯片的能力。該評估僅針對該特定機型，並不適用於估算總量中的每一台設備。
報告寫道，中國對NXT:1980i設備的激增進口不僅占據ASML系統銷售額的很大一部分，也需要中國芯片製造業投入巨額資金。在DUVi設備領域，中國在ASML出貨量中的份額從2022年的26%，飆升至2024年第一季度至2026年第一季度期間的60%–70%。據估算，僅在2024年至2025年間，中方在NXT:1980i系統上的支出就超過了130億美元。
報告作者指出，儘管這些設備在技術上落後於EUV，但經過調整後，它們可用於製造7納米級邏輯芯片，以及用於人工智能處理器（包括華為的「昇騰」系列）的高級存儲芯片。
報告寫道，公開證據表明，至少部分中國先進晶圓廠仍在獲取NXT:1980i系統。首先，安徽海關記錄及來自第三方承包商的信息顯示，中國主要DRAM及HBM製造商長鑫存儲（CXMT）即便在荷蘭於2024年開始實施全國性許可要求後，仍持續獲取NXT:1980i系統。其次，華虹幾乎肯定正在籌備投產一座7納米邏輯芯片晶圓廠；這與公開報導相吻合，即該公司此前已獲得一台NXT:2050i系統（若無先進工藝節點的生產計劃，此類投資將毫無意義）。
荷蘭於2023年9月開始要求對ASML的NXT:2000i及更先進的浸沒式DUV光刻系統實行出口許可制度。自那時起，這些型號的設備實際上已被禁止出口至中國。一年後，荷蘭將許可要求擴大到了NXT:1980i機型，但該機型的出口仍可按個案進行審批。
報告指出，這種做法留下一個重大漏洞。報告警告稱，即使是僅用於成熟製程芯片製造的設備，也可能被重新利用或轉移至先進生產線。
這份報告最後建議，美國只需進行一項簡單的政策調整，即可避免這一局面：將現行針對DUVi（深紫外光刻設備）的局部管制措施，轉變為針對所有DUVi對華出口的全面禁令，並輔以針對備件及維修服務的配套管制。
「此舉將確保美國在先進人工智能芯片生產，及由此衍生的人工智能能力方面，保持至少十年的領先優勢，並確保下一批先進晶圓廠建在美國及其盟國，而非中國。」報告說。
今年4月，美國國會提出的兩黨法案《Match Act》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act，硬體技術管制多邊協調法案）（PDF），旨在對芯片製造設備實施全面對華銷售及服務限制，明確針對浸沒式DUV設備。法案規定，將禁止對中國、俄羅斯、朝鮮、伊朗與古巴等「關注國家」出口關鍵的芯片製造工具，包括DUV光刻機以及低溫蝕刻設備（cryogenic etch tools）。這些設備目前被視為中共突破AI限制、實現「以量換質」的關鍵工具。
參議員們在9月再次呼籲通過該法。