風傳媒台積電2030年前後導入High NA量產！ASML談12吋光罩聯盟，三星規劃2028年採用
作者 魏鑫陽全文約 1,176 字
文章摘要
風傳媒 · 文章頁摘要高數值孔徑極紫外光微影（High NA EUV）的量產導入時程逐漸明朗。艾司摩爾（ASML）執行長Christophe Fouquet今（14）日表示，台積電（2330）確認將在2030年前後，把High NA導入大量生產；三星電子（005930，韓國交易所）則規劃從2028年開始用於大量生產。Fouquet指出，High NA計畫啟動至今已超過十年，如今各......
高數值孔徑極紫外光微影（High NA EUV）的量產導入時程逐漸明朗。艾司摩爾（ASML）執行長Christophe Fouquet今（14）日表示，台積電（2330）確認將在2030年前後，把High NA導入大量生產；三星電子（005930，韓國交易所）則規劃從2028年開始用於大量生產。...