ASML 下一代 Hyper NA 瞄準 5 奈米解析度，EUV 技術還有多少微縮空間？

晶片電路還能縮得多小？荷蘭半導體設備大廠 ASML 與其光學夥伴蔡司（Zeiss）正研發下一代極紫外光（EUV）曝光技術 Hyper NA，目標將單次曝光解析度推進至約 5 奈米半間距（Half-pitch）。《Reuters》近日報導，ASML 尚未承諾量產，但表示這項技術有望約十年後準備就緒。