台積電抱120億神級設備!終結「太貴」質疑、擁抱High-NA EUV

陳又瑄

站內節錄期限已於 結束(台北時間)

台積電抱120億神級設備!終結「太貴」質疑、擁抱High-NA EUV(新聞配圖)
配圖來源:工商時報原站文章

超過站內節錄期

這篇的站內節錄期已過,標題、標籤與原站連結仍保留,全文請至原站閱讀。

文章摘要

AI晶片競賽不只讓台積電先進製程供不應求,也推動全球晶片廠投入造價最高昂的半導體設備之一。荷蘭設備大廠ASML最新High-NA EUV曝光機每台要價約4億美元,折合新台幣逾120億元,幾乎是現行EUV設備的兩倍;過去曾質疑成本效益的台積電,如今也確定將於2030年開始導入量產。台積電態度的轉變,不...