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華為余承東證實 大陸正研發EUV曝光機

作者 林宸誼

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華為終端BG董事長余承東證實,目前大陸正研發極紫外光(EUV)曝光機。不過現階段量產晶片的主流製程路徑,還是依托已完全實現國產化的深紫外(DUV)曝光機。

華為余承東證實 大陸正研發EUV曝光機(新聞配圖)
配圖來源:聯合新聞網

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