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改善EUV製程隨機性誤差 Fractilia助晶圓廠提高良率

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改善EUV製程隨機性誤差 Fractilia助晶圓廠提高良率(新聞配圖)
配圖來源:聯合新聞網

半導體製造量測方案供應商Fractilia表示,隨機性誤差的量測解決方案可協助半導體晶圓廠在極紫外光(EUV)微影製程中......