科技新報

瑞銀：十年內中國料難趕上 ASML 極紫外光微影技術

來源 中央社

跨國投行瑞銀集團（UBS）分析師預估，中國半導體製造能力未來 10 年內可能仍難取得足夠進展，以開發出可替代荷 […]...

https://technews.tw/2026/09/02/china-unlikely-to-catch-up-with-asml-euv-technology-within-10-years/