ASML：High NA EUV 省時和成本，35 萬片晶圓用曝光

來源中央社2025/11/20 08:15

半導體微影設備廠 ASML 台灣暨東南亞區客戶行銷主管徐寬成 19 日表示，半導體製程技術持續不斷微縮，Hig […]...